| 13:00-14:20 | PL-I Opening Ceremony / Plenary Session I Chair: 이진균(인하대) PL-I-1: 조직위원장 개회사, 김성수(연세대) PL-I-2: 한국광학회 회장 축사, 이윤우(한국표준과학연구원) PL-I-3: 학술대회 10주년 기념사, 한재원(연세대) PL-I-4: EUV pellicle with 30 years of lithography life, 오혜근(한양대) |
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| 14:20-14:40 | Break | |||
| Room 1 | Room 2 | Room 3 | Online | |
| 14:40-16:10 | W-EU-I EUV Lithography I |
W-AL-I Alternative Lithography I |
W-NF-I Nano Fabrication for Next Generation Optical Devices I |
Poster Session |
| Chair: 안진호(한양대) | Chair: 박준용(금오공대) | Chair: 김명기(고려대) | ||
| 16:10-16:30 | Break | |||
| 16:30-18:00 | W-EU-II EUV Lithography II |
W-AL-II Alternative Lithography II |
W-NF-II Nano Fabrication for Next Generation Optical Devices II |
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| Chair: 이상설(포항공대 가속기연구소) | Chair: 전석우(KAIST) | Chair: 이승우(고려대) | ||
| 10:00-11:30 | PL-II Plenary Session II Chair: 이상설(포항공대 가속기연구소) PL-II-1: EUV-IUCC 센터장/프로그램위원장 환영사, 안진호(한양대) PL-II-2: Extending semiconductor patterning into the next decade, Dr. Michael Lercel (Sr. Director Strategic Marketing, ASML) PL-II-3: 3 decades in lithography – the ever moving brick wall, Dr. Bernd Geh (Senior Principal Scientist, Carl-Zeiss) |
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| 11:30-13:00 | Lunch/Break | |||
| Room 1 | Room 2 | Room 3 | Online | |
| 13:00-14:30 | T-PM-I Patterning Materials I |
T-LO-I Layout Optimization / Computational Lithography I |
T-MI-I Advanced Metrology / Inspection I |
Poster Session |
| Chair: 이진균(인하대) | Chair: 양현조(ASML) | Chair: 이명준(삼성전자) | ||
| 14:30-14:50 | Break | |||
| 14:50-16:50 | T-PM-II Patterning Materials II |
T-LO-II Layout Optimization / Computational Lithography II |
T-MI-II Advanced Metrology / Inspection II |
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| Chair: 김명웅(인하대) | Chair: 양현조(ASML) | Chair: 이명준(삼성전자) | ||
| 16:50-17:00 | Break | |||
| 17:00-17:20 | PL-III Best Student Paper Awards / Closing Ceremony Chair: 김성환(아주대) PL-III-1: 학생논문상 심사평 및 시상, 김성환(아주대)∙정진항(ASML) PL-III-2: 조직위원장 폐회사, 김향균(홍익대) |
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| ASML Tech Talk |
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