2021 차세대 리소그래피 학술대회

2021 Next Generation Lithography Conference

Nov. 17-18, 2021
Alpensia Convention Center, Pyeong Chang (Online / Offline Hybrid)
함께하는 행사 : ASML TechTalk (Nov. 19, 2021)
Session Track
Full Program
PS1
EUV Lithography

PS1-1
MoSi2 단일막 EUV 펠리클의 광학적/열적 특성 평가
김원진, 김정환, 위성주, 김하늘, *안진호 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A (2)
PS1-2
펠리클 주름에 의한 반사도 변화와 패턴 임계치수에 미치는 영향 연구
문승찬, 이동기, 김영웅, *안진호 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A (3)
PS1-3
극자외선 펠리클의 처짐에 대한 잔류 응력의 영향
강영우, 김정환, 위성주, 김하늘, 김창수, 김원진, *안진호 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A (2)
PS1-4
고 개구수 극 자외선용 phase shift mask 를 위한 최적의 phase shift 와 reflectance
박장군, 강인화, 김민우, 이준형, *오혜근 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A
PS1-5
Dose 량 및 감광제를 포함한 박막층에 따른 극자외선 노광에 의한 웨이퍼의 열적 변형
고희창, 강지원, 강인화, *오혜근 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A (1)
PS1-6
오염 물질 충돌에 의한 EUV pellicle 의 기계적 안정성 평가
강지원, 고희창, 강인화, *오혜근 (한양대학교)
Abstract Presentation Video Q&A
PS1-7
Development of one-stop evaluation system for extreme ultraviolet photoresist using synchrotron radiation
Kanghyun Kim (Postech), Jong-Won Lee, Byeong-Gyu Park, Geonhwa Kim, Jiho Kim (pohang accelerator laboratory), *Geunbae Lim (Postech), *Sangsul Lee (pohang accelerator laboratory)
Abstract Presentation Video Q&A
PS1-8
EUV lighting technology using carbon nanotube-based cold cathode electron beam
유승태, *박규창 (경희대학교)
Abstract Presentation Video Q&A